Химический состав поверхностной пленки

Суть этого метода измерения заключается в том, что поверхностную пленку сначала снимают, причем это осуществляется способом, аналогичным формированию реплики поверхности для обычного электронного микроскопа. По очевидным соображениям образец должен быть диэлектриком и иметь достаточно малую для прохождения луча толщину. Существует только один метод, имеющий большую точность и чувствительность, чем метод интерференции в проходящем свете, - это метод интерференции рентгеновских лучей (точность 10А). На практике измерения с такой точностью требуются крайне редко, так как при используемых процессах подготовки поверхности образуются толстые пленки (500-10 000А), а часто и очень шероховатые поверхности.

Такой метод измерения толщины пленки применяется редко, поскольку он требует знаний коэффициента полезного действия электрического тока, молекулярного веса полученной пленки, природы получаемого вещества и плотности получаемой поверхностной пленки. Этот метод был успешно применен Брэем на тантале и Бернардом и Куком на алюминии.

Для измерения толщины поверхностной пленки в диапазоне 1-1000 А можно использовать очень точный метод-эллипсометрию.

Используя приставку для электронного микроанализа в сочетании с растровым электронным микроскопом, можно одновременно получить картину распределения концентрации элементов и элементарный состав поверхностной пленки (при этом возможно определение элементов периодической таблицы от натрия до урана включительно). Этот новый метод исследований является самым могущественным из когда-либо появлявшихся аналитических методов. В противоположность обычному электронному микрозонду и рентгеновскому микроанализатору, с помощью которых можно проанализировать только несколько элементов одновременно и которые относительно трудно использовать для анализа других элементов периодической таблицы, кремниевый детектор для неспектрального анализа охватывает одновременно всю периодическую таблицу от натрия (порядковый номер 11) до урана (порядковый номер 92).